光刻胶的主要成分是光敏物质、聚合物和溶剂。其中,光敏物质是影响光刻胶曝光效果的关键因素,它可以吸收紫外线并引发化学反应,从而使聚合物发生变化,最终实现图形转移。聚合物则是光刻胶的骨架,决定了其物理性质,如粘度、硬度等。溶剂则用于调节光刻胶的粘度和流动性,以便在制程中更好地应用。